[发明专利]参数处理方法及装置在审
| 申请号： | 202210097774.5 | 申请日： | 2022-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN114337858A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 万志军 | 申请（专利权）人： | 深圳市有方科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H04B17/00 | 分类号： | H04B17/00;H04B17/11;H04B17/21 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 陈舟苗 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种参数处理方法及装置，该方法包括：根据多个已校准产品的初始射频参数，确定第一射频参数；基于第一射频参数生成第一配置文件；将第一配置文件写入测试产品，获取对测试产品的第一射频测试结果；若第一射频测试结果为测试产品通过射频测试，则根据第一配置文件将第一射频参数写入产品。采用本申请，可以得到理想的第一射频参数，并将第一射频参数写入产品之中，而无需再使用射频校准仪器进行校准，在保证产品良好的射频性能的同时，提升产品生产效率，降低产品成本。 | ||
| 搜索关键词： | 参数 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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