[发明专利]含有有机刚性笼状化合物的底部抗反射涂料组合物及其制备方法和微电子结构的形成方法

摘要

本发明属于光刻胶领域，涉及一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法和微电子结构的形成方法。所述底部抗反射涂层组合物中含有改性刚性有机笼状化合物Ⅰ和Ⅱ以及有机溶剂；所述改性刚性有机笼状化合物Ⅰ和Ⅱ分别为将刚性有机笼状化合物中的部分酚羟基修饰转化为修饰基团以及乙烯基醚基团所得的化合物，所述修饰基团的通式为‑O‑R1，R1为生色基团、酸不稳定基团、酸性基团或非功能性基团。本发明提供的底部抗反射涂层组合物在加热交联后既不溶于有机溶剂，也不溶于光刻胶碱性显影液，但在酸存在下曝光后可被解交联，使得曝光部分可被碱性显影液除去，而非曝光部分未除去，可减少显影后底部抗反射涂层的残留。