[发明专利]多源设计的X射线分析系统和方法在审
| 申请号： | 202210103584.X | 申请日： | 2022-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN114486971A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 张雪娜;洪峰;王翠焕 | 申请（专利权）人： | 深圳市埃芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223;G01N23/20;G01N23/201;G01N23/207 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 倪斌 |
| 地址： | 518110 广东省深圳市龙华区观澜*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 公开了一种多源设计的X射线分析系统和方法。根据实施例，X射线分析系统可以包括：射线源，包括被配置为产生射线的多个射线发生装置；探测器，被配置为探测分析对象被来自射线源的射线照射而产生的信号；以及控制器，被配置为控制射线源，使射线源中的两个或更多个射线发生装置同时产生相应的射线，以照射分析对象。 | ||
| 搜索关键词： | 设计 射线 分析 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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