[发明专利]高速光电探测器的外延结构在审

专利信息
申请号: 202210111115.2 申请日: 2022-01-29
公开(公告)号: CN116565040A 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 宋国峰;晁明豪;刘青松;庄凌云 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/101;H01L31/103
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供了一种高速光电探测器的外延结构,所述高速光电探测器的外延结构包括:在半绝缘衬底上依次生长的缓冲层、下阴极接触层、刻蚀阻挡层、上阴极接触层、饱和漂移层、崖层、过冲漂移层、下过渡层、本征耗尽吸收层、重掺梯度非耗尽吸收层、上过渡层、扩散阻挡层和阳极接触层,所述本征耗尽吸收层和所述重掺梯度非耗尽吸收层均采用与InP材料晶格匹配度高、对1550nm波长光子吸收效率高的In0.53Ga0.47As材料。
搜索关键词: 高速 光电 探测器 外延 结构
【主权项】:
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