[发明专利]叠层吸盘、叠层工艺及半导体封装体的制造方法在审
| 申请号： | 202210115968.3 | 申请日： | 2022-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN114823464A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 黄伟杰;罗祐青;袁景滨;林玟志;郭震宇;雷弋昜;谢静华 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 康艳青;王琳 |
| 地址： | 中国台湾新竹科学工业园区新*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例是有关于一种叠层吸盘、叠层工艺及半导体封装体的制造方法。一种用于膜材料的叠层的叠层吸盘包括支撑层和顶层。顶层设置在支撑层上。顶层包括聚合物材料，聚合物材料的肖氏硬度A低于支撑层的材料的肖氏硬度A。顶层和支撑层具有贯穿其中的至少一个真空沟道，至少一个真空沟道从顶层的顶表面垂直延伸到支撑层的底表面。 | ||
| 搜索关键词： | 吸盘 工艺 半导体 封装 制造 方法 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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