[发明专利]带涂覆层的光学组件及使用方法在审
| 申请号： | 202210126552.1 | 申请日： | 2022-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN114647156A | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 许倍诚;林秉勋;连大成;李信昌 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 桑敏 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开提供了带涂覆层的光学组件及使用方法。在EUV光刻系统中，经涂覆的纳米管和纳米管束被形成在光学组件中有用的膜中。这些光学组件在用于在半导体衬底上图案化材料的方法中有用。这样的方法涉及在UV光刻系统中产生UV辐射。UV辐射穿过光学组件(例如，薄膜组件)的涂覆层。已穿过涂覆层的UV辐射穿过个体纳米管的基体或纳米管束的基体。穿过个体纳米管的基体或纳米管束的基体的UV辐射从掩模反射并在半导体衬底处被接收。 | ||
| 搜索关键词： | 覆层 光学 组件 使用方法 | ||
【主权项】：
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