[发明专利]正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺在审
| 申请号： | 202210167588.4 | 申请日： | 2022-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN114460810A | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 王晓伟 | 申请（专利权）人： | 苏州理硕科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/32 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 向薇 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏州工业*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻材料技术领域，特别是涉及一种正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺。本发明通过选用聚酰胺作为原料，并在其芳环上修饰羟基，以调整聚酰胺在光刻胶溶剂中的溶解性，且可以提供与交联剂反应的位点。聚酰胺树脂与交联剂的反应产物溶解性下降，被固化于基材表面形成胶膜；光刻过程中，曝光部分的光酸发生剂产生光酸，使得架桥解离，再次变成可以被碱性显影液洗去的聚酰胺和交联剂，从而使未曝光部分的图案得以保留。由于聚酰胺与交联剂形成的架桥作用力较弱，即使是较弱的光酸产生剂也能适用于本发明的方案，从而拓宽了光刻胶成品的应用范围；而且，由于光刻胶结构中引入了聚酰胺，光刻胶成品膜的耐热性能有明显的提升。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 及其 制备 方法 工艺 | ||
【主权项】：
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