[发明专利]一种带孔洞钝化层的GaN基激光二极管结构及制造方法在审

专利信息
申请号: 202210167922.6 申请日: 2022-02-23
公开(公告)号: CN114552386A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 李宇翔 申请(专利权)人: 安徽格恩半导体有限公司
主分类号: H01S5/20 分类号: H01S5/20;H01S5/32;H01S5/323;H01S5/028
代理公司: 北京文慧专利代理事务所(特殊普通合伙) 11955 代理人: 戴丽伟
地址: 237161 安徽省六安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种带孔洞钝化层的GaN基激光二极管结构及制造方法,包括依次层叠设置的N电极、n型GaN衬底、N波导层、发光活性层、P波导层、P型电子阻挡层和钝化层;P型电子阻挡层的上部表面凸出设置有脊条,脊条包括P覆盖层、P接触层和P接触电极层;钝化层包括第一钝化层和第二钝化层,第一钝化层设置在P型电子阻挡层的上表面,位于所述脊条的两侧,第一钝化层的靠近脊条的一侧设置有切角,使得第一钝化层与脊条之间形成切角空间,脊条两侧的切角对称设置;切角的上端部与脊条之间具有间隙,第二钝化层置于第一钝化层的上表面,在第二钝化层上表面及脊条上还设有P电极。其可形成较高光限制效果,降低对绝缘材料的折射率要求。
搜索关键词: 一种 孔洞 钝化 gan 激光二极管 结构 制造 方法
【主权项】:
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