[发明专利]光学特性的建模方法、光声测量方法及装置在审
| 申请号： | 202210199242.2 | 申请日： | 2022-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN114543690A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 唐岳;董诗浩;李仲禹 | 申请（专利权）人： | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人： | 黄海霞 |
| 地址： | 201702 上海市青浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种应用于半导体领域的光学特性的建模方法、光声测量方法及装置，所述光声测量方法包括：根据本申请中所述的光学特性的建模方法创建光谱库；获取所述待测样品的测量光谱信号以获取所述待测样品的反射率变化信号，即实测信号；将所述实测信号与所述光谱库中的仿真信号进行拟合，得到拟合差值最小的所述仿真信号所对应的参数，以获取所述待测样品的膜厚值。本发明通过将所述实测信号与所述仿真信号进行拟合，得到拟合差值最小的所述仿真信号所对应的参数，以获取所述测量光谱信号所对应的膜的膜厚值，可以提高待测晶圆表面设置的膜的膜厚计算的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 特性 建模 方法 测量方法 装置 | ||
【主权项】：
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