[发明专利]打印方法、打印系统以及打印设备有效
| 申请号： | 202210202012.7 | 申请日： | 2022-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN114683731B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 请求不公布姓名 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/00 | 分类号： | B41M5/00;B41J2/07;B41J29/393 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例公开了一种打印方法、打印系统以及打印设备。本申请实施例提供的打印方法包括：喷射第一打印材料和第二打印材料；分别获取第一打印材料和第二打印材料的喷射路径；根据第一打印材料和第二打印材料的喷射路径得到第一打印材料和第二打印材料滴落在打印设备上的实际间距；比较实际间距与设定间距，以检查打印精度。在打印设备处于校正状态时，对打印设备的喷墨路径进行拍照抓取，并得到喷墨后打印材料的间距。将实际的喷墨间距与设定间距进行比较，得到打印精度。这种方法不需要在基板上设置打印的虚拟区域，可以节省成本。另外，打印精度检查是在基板的交换片时间进行，检查了打印精度也不影响正常打印，提高了产能。 | ||
| 搜索关键词： | 打印 方法 系统 以及 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210202012.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种电镀品质检测自动化装置
- 下一篇：电极组件和半导体工艺设备
