[发明专利]一种双缺陷工艺构建硼氢化钠还原的钼掺杂的R-Mo-NiCo2在审

专利信息
申请号: 202210204307.8 申请日: 2022-03-02
公开(公告)号: CN114604906A 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 孔泳;王成超;蔡文蓉;李俊瑶;吴大同 申请(专利权)人: 常州大学
主分类号: C01G53/00 分类号: C01G53/00;H01G11/30;H01G11/86
代理公司: 北京市诚辉律师事务所 11430 代理人: 范盈;李玉娜
地址: 213164 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种双缺陷工艺构建硼氢化钠还原的钼掺杂的R‑Mo‑NiCo2O4及其制备方法和应用,属于材料合成技术领域。R‑Mo‑NiCo2O4的制备方法包括:称取前驱体钼掺杂的镍钴‑层状双氢氧化物/碱式氧化镍即Mo‑NiCo‑LDH/NiOOH进行氧化煅烧处理,得到钼掺杂的钴酸镍即Mo‑NiCo2O4,再将Mo‑NiCo2O4置于硼氢化钠溶液中进行还原,得到富含氧空位的R‑Mo‑NiCo2O4。本发明制备方法简单易行,制得的R‑Mo‑NiCo2O4可用作超级电容器电极,经过5000次充放电后,其容量保持率为87.4%,说明R‑Mo‑NiCo2O4作为电极材料具有较高的循环稳定性和较高的比容量。
搜索关键词: 一种 缺陷 工艺 构建 氢化 还原 掺杂 mo nico base sub
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