[发明专利]原位加热芯片及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202210205477.8 申请日: 2022-03-04
公开(公告)号: CN114899070A 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 杜海峰;王宁;郝宁 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: H01J37/20 分类号: H01J37/20;H05B3/02
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 季向冈
地址: 230031 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明的原位加热芯片及其制造方法,能够在很小的范围内进行加热并能够实现较高的温度梯度。原位加热芯片(100)包括:由硅构成的基片;形成在基片的至少1个主面上的二氧化硅层;和形成在二氧化硅层上的氮化硅层,原加热芯片(100)形成有通过除去基片而保留至少1个氮化硅层而成的加热微区薄膜窗口,在加热微区薄膜窗口形成有至少2个能够独立地加热的加热区域,在每个加热区域,在氮化硅层上形成有金属薄膜电阻图案(102)和与金属薄膜电阻图案(102)电连接的多个电极(102‑1、102‑2、102‑3、102‑4),在至少2个加热区域的每个加热区域之间,形成有由多个贯通加热微区薄膜窗口的贯通孔构成的镂空阵列(103)。
搜索关键词: 原位 加热 芯片 及其 制造 方法
【主权项】:
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