[发明专利]半导体结构及其制备方法、三维存储器、电子设备在审

专利信息
申请号: 202210225670.8 申请日: 2022-03-07
公开(公告)号: CN114664852A 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 杨琨;贾建权;贾信磊;周稳;游开开;靳磊;韩佳茵;徐盼 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11575;H01L27/11582
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 430000 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本公开提供了一种半导体结构及其制备方法、三维存储器、电子设备。涉及半导体芯片技术领域,旨在解决沟道孔底端尺寸小,导致栅控能力降低的问题。上述半导体结构包括半导体衬底、存储叠层结构以及沟道结构。存储叠层结构设置于半导体衬底的一侧;存储叠层结构包括依次远离半导体衬底,且层叠设置的第一存储堆叠层、连接层以及第二存储堆叠层;第一存储堆叠层和第二存储堆叠层包括多层栅极层。沟道结构贯穿存储叠层结构;沟道结构包括第一沟道结构和第二沟道结构;第一沟道结构贯穿第一存储堆叠层,第二沟道结构贯穿第二存储堆叠层和连接层。其中,第二沟道结构中与连接层接触的部分,朝向连接层凸起。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制备 方法 三维 存储器 电子设备
【主权项】:
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