[发明专利]一种纳米复合MeSiCN涂层的制备装置及其制备方法在审
| 申请号： | 202210256157.5 | 申请日： | 2022-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN114672774A | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 马英鹤;杨建国;朱剑豪;贺艳明;郑文健;李华鑫;闾川阳;任森栋 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 周红芳 |
| 地址： | 310006 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米复合MeSiCN涂层的制备装置及其制备方法，在真空室内无需增加额外结构设计，并能够有效解决现有多弧离子镀工艺中加入含有碳、氮和硅元素的有机硅气体后，靶表面很容易生成导电差的反应物，导致放电不稳定、基体获得电流降低，涂层质量不好的问题；本发明在金属靶前通入有机硅气体后，金属蒸汽和反应气体被磁场增强脉冲多弧发射出来的高密度电子离化，沉积在工件表面形成MeSiCN纳米复合涂层；本发明具有设备和工艺简单、沉积速度快、成本低、膜基结合强度高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 复合 mesicn 涂层 制备 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
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