[发明专利]用于单光子发射断层成像的装置及投影数据的处理方法有效
| 申请号： | 202210256815.0 | 申请日： | 2022-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN114587398B | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | 孙立风;吕振雷;马天予;刘辉;刘伟 | 申请（专利权）人： | 中核高能（天津）装备有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;A61B6/06 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 臧静 |
| 地址： | 300300 天津市东*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种用于单光子发射断层成像的装置及投影数据的处理方法，装置包括准直器和遮挡机构，准直器包括接收部和屏蔽部，接收部表面凹陷形成至少两个通孔，屏蔽部围绕接收部形成容纳腔，射线通过通孔进入容纳腔，遮挡机构可移动设置于所述容纳腔内，用于遮挡射线，限制通孔的投影范围，分割各个通孔的投影，避免通孔投影混叠所带来的重建图像中的伪影，确保成像视野的完整性，解决了每个通孔成像视野会出现缺失的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光子 发射 断层 成像 装置 投影 数据 处理 方法 | ||
【主权项】：
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