[发明专利]一种红外光学系统全光机表面的内部杂散辐射的计算方法在审
| 申请号： | 202210267228.1 | 申请日： | 2022-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN114754877A | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 张智南;胡炳樑;李立波;邹纯博;郝雄波;柯善良;杨凡超 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01J5/48 | 分类号： | G01J5/48 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 汪海艳 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于红外光电成像领域，涉及一种红外光学系统全光机表面的内部杂散辐射的计算方法。克服现有红外光学系统内部杂散辐射分析测试方法存在的计算效率低及无法计算所有光机表面的内部杂散辐射能量的技术问题。首先建立红外光学系统的光机模型，其次，在光机模型探测器位置处设置逆向追迹光源，进行逆向追迹，最后通过逆向追迹可计算得到所有光机表面对探测器的立体角张角，根据得到的立体角计算结果，可计算任意温度下，红外光学系统所有光机表面的内部自发杂散辐射。为红外冷光学设计与实施提供真实可靠的输入，具有很强的工程应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 红外 光学系统 全光机 表面 内部 辐射 计算方法 | ||
【主权项】：
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