[发明专利]一种纳米填料原位引发合成含硫聚合物的制备方法及其产品和应用有效
申请号: | 202210272287.8 | 申请日: | 2022-03-18 |
公开(公告)号: | CN114605641B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 张兴宏;冯展彬;冯国飞;岳昕辰;曹晓瀚;虞卿磊;张旭阳 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C08G75/28 | 分类号: | C08G75/28 |
代理公司: | 杭州知闲专利代理事务所(特殊普通合伙) 33315 | 代理人: | 朱朦琪 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种纳米填料原位引发合成含硫聚合物的制备方法及其产品和应用,制备方法包括:(1)将纳米填料、强碱与溶剂混合,高温下反应制备得到预处理的纳米填料;(2)以预处理的纳米填料为引发剂,原位引发含硫一碳单体与环氧单体进行阴离子开环聚合得到含硫聚合物。本制备方法,反应过程绿色无污染、无有毒化合物的产生,且能实现纳米填料均匀分散在聚合体系中,原位对聚合物材料增强增韧;制备得到的含硫聚合物具备优异的力学性能与高介电常数,有望用于光学器件、生物医疗、航空航天、电子电器等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 填料 原位 引发 合成 聚合物 制备 方法 及其 产品 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210272287.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:触摸板总成及笔记本电脑
- 下一篇:一种复合益生菌生产用发酵系统