[发明专利]一种MOCVD设备的加热装置

摘要

本发明涉及一种MOCVD设备的加热装置，包括有反应腔室、喷淋系统和底座，底座设置于反应腔室内壁底部，喷淋系统与反应腔室连通；底座包括有衬底托盘、加热组件、固定组件和旋转组件，衬底托盘设置于加热组件的上侧，固定组件设置于加热组件的下侧，衬底托盘上设置有可供衬底放置的放置槽，旋转组件驱动衬底托盘、加热组件和固定组件旋转。上述MOCVD设备的加热装置，能够通过可控硅调节器控制通向加热体的电压、电流，进而控制值加热体的功率，以实现精密控温，使反应温度精确控制在一定范围内，保证反应效率，而且能够通过固定组件将衬底固定，防止其在反应的过程中脱离衬底托盘，反应完成后固定组件可以将ZnO薄膜顶起，以供机械手取出。