[发明专利]一种基于可变背景的流场测量装置及方法有效
| 申请号： | 202210292219.8 | 申请日： | 2022-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN114383668B | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 杨立军;李敬轩;张玥;梁炫烨 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G01D21/02 | 分类号： | G01D21/02;G06T5/40 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 宋南 |
| 地址： | 100089*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了一种基于可变背景的流场测量装置及方法，涉及纹影法定量测量技术领域，包括：LED平行背光源、液晶面板、相机、图像处理模块和背景图案生成模块；LED平行背光源，用于向液晶面板发射平行光源；背景图案生成模块，用于基于预设的背景图案生成算法，根据相机分辨率和视场生成最优背景图案，将最优背景图案发送至液晶面板进行显示；相机，用于对最优背景图案前未放置待测流场和最优背景图案前放置待测流场分别进行成像，得到第一图像和第二图像；图像处理模块，用于对第一图像和第二图像按照预设算法进行处理，得到待测流场的密度和温度。本申请根据测量需求更改背景图案的大小和样式，提高了待测流场的测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 可变 背景 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学，未经北京航空航天大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210292219.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：图像传感器及其制作方法
- 下一篇：一种叠片电芯贴胶绕胶设备
