[发明专利]一种浅结扩散发射极的晶硅太阳能电池的制备方法及其应用有效

专利信息
申请号: 202210297638.0 申请日: 2022-03-24
公开(公告)号: CN114695598B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 任勇;何悦;任海亮;郭帅;王在发;李增彪 申请(专利权)人: 横店集团东磁股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/223
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 边人洲
地址: 322118 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种浅结扩散发射极的晶硅太阳能电池的制备方法及其应用。所述制备方法包括扩散工艺和链式氧化工艺;所述扩散工艺包括低温扩散和高温推进,所述链式氧化工艺包括高温链式氧化。本发明首先通过扩散工艺的优化,制备了0.15um深的低掺杂扩散浅结,同时,利用高温链式氧化的光子热激活辐射能,在扩散层表面形成一定剂量浓度的掺杂,来解决后续与银浆形成合金欧姆接触的失配问题,最终获得了较高的光电转换效率提升。
搜索关键词: 一种 扩散 发射极 太阳能电池 制备 方法 及其 应用
【主权项】:
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