[发明专利]利用干冰对电子级多晶硅进行清洗的方法在审

专利信息
申请号: 202210313946.8 申请日: 2022-03-28
公开(公告)号: CN114769219A 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 李波;神干;卢文;耿庆智;陆金鸽 申请(专利权)人: 江苏鑫华半导体科技股份有限公司
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00;B08B13/00;C01B33/037
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 徐章伟
地址: 221004 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了利用干冰对电子级多晶硅进行清洗的方法。该方法包括:在对破碎得到的多晶硅料进行筛分的过程中,以保护气或压缩空气为载气,利用干冰对所述多晶硅料进行吹扫清洗,其中:吹扫的压力为6~8公斤力,吹扫的流速为0.8~1.2m/s。由此,该方法操作简单、方便,无需任何湿化学处理,不仅可以有效去除各个处理过程中可能引入的油脂,还能实现附着在硅块表面的硅粉、非硅物与硅块的有效分离,减少硅块表面的颗粒物,进而减少被带入酸洗机内的污染物。
搜索关键词: 利用 干冰 电子 多晶 进行 清洗 方法
【主权项】:
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