[发明专利]一种降低中抗拉锂电铜箔单位面积质量极差的方法在审

专利信息
申请号: 202210330584.3 申请日: 2022-03-30
公开(公告)号: CN114635169A 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: 宗道球;周加珍;洪炳华;聂济涛 申请(专利权)人: 九江德福科技股份有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D1/04
代理公司: 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 代理人: 王珂
地址: 332000 江西省*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种降低中抗拉锂电铜箔单位面积质量极差的方法,该方法包括以下步骤:S1将硫酸铜电解液储存在净液罐;S2光亮剂、走位剂和整平剂分别储存,光亮剂为对硫二丙烷磺酸钠与氯离子的混物,走位剂为聚乙烯亚胺烷基化合物,整平剂为胶原蛋白;S3将添加剂加入到添加剂储液罐中;S4添加剂流向净液罐,添加剂和电解液输送至生箔系统电解生箔。该方法依靠合理的电解液和添加剂配比,工作温度流速合理,使得氯离子和SPC相配合使生产的铜箔表面平滑细腻,高电位被整平剂吸附,走位剂为镀层提供良好的分散性,进一步使铜箔表面平整,从而降低中抗拉锂电铜箔单位面积质量极差,达到锂电池储存更多能量、提高电流循环使用寿命的目的。
搜索关键词: 一种 降低 中抗拉锂电 铜箔 单位 面积 质量 极差 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于九江德福科技股份有限公司,未经九江德福科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210330584.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top