[发明专利]一种锰离子插层且氮化的MXene的制备方法及其制备装置在审
申请号: | 202210349324.0 | 申请日: | 2022-04-01 |
公开(公告)号: | CN115259155A | 公开(公告)日: | 2022-11-01 |
发明(设计)人: | 孙俊良;李海生 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | C01B32/90 | 分类号: | C01B32/90;B01F27/13;B01F33/452;B01F35/53;B01F35/71 |
代理公司: | 北京壹川鸣知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11765 | 代理人: | 刘江琳 |
地址: | 100871 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明属于材料制备技术领域,具体的说是一种锰离子插层且氮化的MXene的制备方法及其制备装置,包括搅拌机体;所述搅拌机体的顶部安装有搅拌料腔;所述搅拌料腔为上小下大的圆台形设置;所述搅拌料腔的内部安装有搅拌叶片;所述搅拌料腔的内部设有若干个挡料架;所述挡料架在搅拌料腔的内部呈圆周阵列规律排列;所述挡料架的内部固接有网状刀片;通过在搅拌料腔的内部设置挡料架,在挡料架的内部设置网状刀片的结构设计,实现了可使得混合液的搅拌更加均匀的功能,有效解决了搅拌过程中,出现搅拌不均匀的情况,使得搅拌的效果受到影响的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 离子 氮化 mxene 制备 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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