[发明专利]具有波浪纹路抗反射层的基板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202210355408.5 申请日: 2022-04-06
公开(公告)号: CN116931136A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 许铭案 申请(专利权)人: 许铭案
主分类号: G02B1/118 分类号: G02B1/118;G02B1/12;G02F1/1335;G03F7/40;G03F7/20
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 周鹤
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种具有波浪纹路抗反射层的基板及其制造方法,其中该制造方法包含:形成一负型光阻层于一基板上,该负型光阻层由一负型光阻材料所构成;执行一软烤制程、一第一曝光制程、一显影制程,以形成欲制作的一保留图案区,该第一曝光制程对该负型光阻材料当中的部分形成第一次交联;执行一热处理制程,以使该保留图案区的表面形成一波浪纹路结构;执行一第二曝光制程,将该保留图案区的该负型光阻材料的剩余部分形成第二次交联而固化该波浪纹路结构;以及以一硬烤制程对已完成第二次交联的该负型光阻材料进行加热,以提高该波浪纹路结构的稳定性。据此,得到具有超低反射率的负型光阻层的特殊技术功效。
搜索关键词: 具有 波浪 纹路 反射层 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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