[发明专利]一种硒氧化铋二维垂直鳍(Fin)阵列及其晶圆级批量化制备方法在审
申请号: | 202210359418.6 | 申请日: | 2022-04-07 |
公开(公告)号: | CN116936366A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 彭海琳;谭聪伟 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01L21/34 | 分类号: | H01L21/34;H01L29/24;H01L29/78;C30B29/64;C30B29/46;C30B25/18 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵静 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: |
本发明公开了一种硒氧化铋二维垂直鳍(Fin)阵列及其晶圆级批量化制备方法。该方法,包括如下步骤:以LaAlO |
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搜索关键词: | 一种 氧化 二维 垂直 fin 阵列 及其 晶圆级 批量 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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