[发明专利]一种通过范德华外延法探测薄膜挠曲电效应的装置及方法有效

专利信息
申请号: 202210368438.X 申请日: 2022-04-09
公开(公告)号: CN114923405B 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 舒龙龙;王支国;柯善明;张振;舒胜文;饶郑刚;李纯纯 申请(专利权)人: 南昌大学
主分类号: G01B7/16 分类号: G01B7/16;G01R31/00;G01N3/20;C30B23/02;C30B29/22
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 王焕巧
地址: 330000 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开了一种通过利用云母基氧化膜的范德华外延法探测薄膜挠曲电效应的装置及方法,该装置包括云母衬底、以云母衬底通过范德华外延法生长的薄膜材料、上下表面电极、位移端、信号采集器、固定端,其中薄膜材料与上下表面电极紧密连接,薄膜材料与电极以范德华外延法生长在云母衬底上,位移端在材料上表面电极上施加位移输出电荷,信号采集器输出端与电极连接。此种方式与传统的刚性薄膜衬底相比,柔性云母衬底与薄膜材料间以范德华力连接,没有刚性夹持作用,可以更好的探究薄膜材料的挠曲电效应。
搜索关键词: 一种 通过 范德华 外延 探测 薄膜 挠曲 效应 装置 方法
【主权项】:
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