[发明专利]基于参考线及局部平面的位姿生成方法在审

专利信息
申请号: 202210371727.5 申请日: 2022-04-11
公开(公告)号: CN114782531A 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 杨跞;范伟;左方睿;王思文 申请(专利权)人: 中科新松有限公司
主分类号: G06T7/73 分类号: G06T7/73;G06V10/77;G06V10/25;G06V10/74;G06K9/62
代理公司: 北京科石知识产权代理有限公司 11595 代理人: 徐红岗
地址: 201206 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种基于参考线和局部平面的位姿生成方法,利用待定位工件3D点云中的平面点云给出工件的初步位姿,进而通过平移至相机坐标系,即可为后续的精匹配提供输入。相对于传统的基于3D点云中的点对特征匹配的“粗匹配”算法,这种基于“平面拟合”的“非匹配”算法,处理速度远快于粗匹配算法,将大大整体加快工件的定位速度方法。
搜索关键词: 基于 参考 局部 平面 生成 方法
【主权项】:
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