[发明专利]一种反应腔装置及微波等离子体气相沉积系统

摘要

本发明提供了一种反应腔装置及微波等离子体气相沉积系统，属于微波等离子体领域。上述反应腔装置包括反应腔壳体，反应腔壳体一端设置有调节组件另一端设置有封堵组件；或者，反应腔壳体的两端均设置有调节组件。调节组件包括滑块，滑块滑动插接在反应腔壳体内，并能够被固定于预设位置；反应腔壳体内能够形成密闭腔体。使用时，先将封堵组件打开，并将待镀膜杆件放入到反应腔壳体内；然后通过适当移动调节组件的滑块来调整反应腔壳体内的长度空间，从而使得反应腔壳体内部空间与待镀膜杆件的长度相适应。上述调节组件的设置，使得反应腔装置能够在一定范围内适应不同长度的待镀膜杆件，提高了其使用范围。