[发明专利]掩模版残胶清理设备及掩模版残胶清理方法

摘要

本申请提供一种掩模版残胶清理设备及掩模版残胶清理方法，涉及掩模版保护技术领域。本申请将残胶清除组件经升降机构安装在承载基座上，使残胶清除组件可在升降机构的带动作用下相对于承载基座进行升降运动，接着将清理平台安装在承载基座上，使清理平台可带动自身盛放的带残胶掩模版相对于承载基座在水平面上移动或转动，进而通过使清理平台在残胶清除组件与带残胶掩模版的带残胶表面接触的情况下带动带残胶掩模版移动或转动来完成残胶擦除操作，从而通过对应掩模版残胶清理设备避免人工擦拭除胶所导致的人体损伤，并对单次掩模版除胶效果进行工艺标准化，降低掩模版在残胶去除过程中被污染的风险。