[发明专利]一种微系统薄膜平坦化方法在审
| 申请号： | 202210411850.5 | 申请日： | 2022-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN115385295A | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 周国安;罗大杰;马琳 | 申请（专利权）人： | 赛莱克斯微系统科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B7/02;B24B37/005;B24B37/04;B24B37/10;B24B49/00 |
| 代理公司： | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人： | 查薇 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微系统薄膜平坦化方法，其中包括：提供形成有图形化薄膜的半导体衬底；在图形化薄膜上形成平坦层，对图形化薄膜形成图形化填充；采用多区域抛光头对平坦层抛光至预设厚度；抛光时间不大于3min；对抛光后的平坦层在化学机械平坦化设备内进行清洗。本发明方法制作薄膜时厚度更易于控制，且获得的薄膜平坦度及稳定性更加良好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 系统 薄膜 平坦 方法 | ||
【主权项】：
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