[发明专利]一种基于基体材料的微纳米转印材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202210417668.0 | 申请日： | 2022-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN115895008A | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 郭秀格 | 申请（专利权）人： | 昆山惠士德新材料有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/046 | 分类号： | C08J7/046;C09D133/00;C09D7/63;C08L67/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于基体材料的微纳米转印材料，其组成包括：基材、纳米涂层组合物，所述纳米涂层组合物的制备原料包括：丙烯酸树脂、丙烯酸酯、助剂、含氟活性物质、光引发剂，得到的纳米涂层固化速度快、附着力好，硬度佳、通透性好，涂抹平整、光滑、有光泽度，同时赋予涂层优异的高水接触角，远高于现有技术，可以实现防指纹的功能，而且涂层的耐磨、耐磨、耐温稳定性好，具有柔和、高爽滑的手感，提升了该微纳米转印材料的使用感。此外，纳米涂层组合物为无溶剂体系，经济、绿色环保。而将其用于制备基于基体材料的微纳米转印材料的制备方法简单，加工成本低，适合大批量生产，可以广泛用于手机薄膜、装饰材料、TP麦拉等行业。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 基体 材料 纳米 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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