[发明专利]一种基于ScAlMgO4在审

专利信息
申请号: 202210431166.3 申请日: 2022-04-22
公开(公告)号: CN114864401A 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 钟玉煌;张海涛;许彬;潘华;陆羽;蒲小东;王素素 申请(专利权)人: 无锡吴越半导体有限公司
主分类号: H01L21/335 分类号: H01L21/335;H01L29/15;H01L21/02;H01L29/778;C30B29/68;C30B29/40;C30B25/16
代理公司: 无锡智麦知识产权代理事务所(普通合伙) 32492 代理人: 王普慧
地址: 214000 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于ScAlMgO4衬底的GaN基HEMT器件外延结构,该GaN基HEMT器件外延结构包括依次层叠的ScAlMgO4衬底,i‑AlxGa1‑xN/i‑GaN超晶格层,i‑GaN层,i‑AlN层,i‑AlyGa1‑yN层,以及GaN或p型GaN层。与现有技术相比,本发明可以有效降低GaN薄膜缺陷密度,得到大尺寸高质量GaN HEMT器件。
搜索关键词: 一种 基于 scalmgo base sub
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡吴越半导体有限公司,未经无锡吴越半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210431166.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top