[发明专利]碲化锡薄膜/锗异质结宽谱光电探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202210447367.2 申请日: 2022-04-26
公开(公告)号: CN115000208B 公开(公告)日: 2023-10-20
发明(设计)人: 唐利斌;宋立媛;郝群;周艳;王微;杨春丽;冯江敏;袁绶章;邓功荣;王善力 申请(专利权)人: 昆明物理研究所
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/109;H01L31/18;H01L21/02;C23C14/06;C23C14/54
代理公司: 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 代理人: 和琳
地址: 650000 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 基于碲化锡薄膜/锗异质结宽谱光电探测器及其制备方法,涉及可见至近红外波段的宽光谱光电探测领域,尤其涉及一种基于新型二维半导体材料的高探测率、高响应率的光电探测器及其制备方法。本发明方法采用二维半导体材料碲化锡薄膜为构建异质结的p‑型材料,基底采用锗衬底。采用“一步式”直流溅射法在清洗、预掩膜后的锗基底上,直接溅射碲化锡薄膜以制备碲化锡薄膜/锗异质结。去除掩膜后,热蒸镀金属Al电极以制备光伏探测器原型器件。与现有制备技术相比,本发明制备方法简单高效、低成本,低功耗,实现了可见至近红外波段(400‑1050 nm)的室温工作的碲化锡薄膜/锗异质结宽谱光电探测器的制备。制备工艺高效、简单,室温下器件响应率、探测率高。
搜索关键词: 碲化锡 薄膜 锗异质结宽谱 光电 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
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