[发明专利]一种提高平面硫化镉靶材溅射膜厚均匀性的装置及方法在审
| 申请号： | 202210473499.2 | 申请日： | 2022-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN114908325A | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 郑威;尚航;连重炎 | 申请（专利权）人： | 宣城开盛新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 南京匠桥专利代理有限公司 32568 | 代理人： | 王冰冰 |
| 地址： | 242000 安徽省宣*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及平面硫化镉靶材技术领域，具体涉及一种提高平面硫化镉靶材溅射膜厚均匀性的装置及方法，从硬件系统设计上面做优化，针对现有的硫化镉靶阴极系统，磁场可以通过调整不同磁性的永久磁铁，可操作性强，既可以满足磁场调整的需求，不需要修改其他硬件或是软件，工艺参数也不需要做修改，而且从结果来看，既可以满足总体膜厚的需求，又能够单独调整整体膜厚的均匀性，扩大了硫化镉工艺调试窗口。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 平面 硫化 镉靶材 溅射 均匀 装置 方法 | ||
【主权项】：
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