[发明专利]一种用于分子束外延设备金属部件的表面处理方法在审
申请号: | 202210495823.0 | 申请日: | 2022-05-07 |
公开(公告)号: | CN115161649A | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 王君;王晓晖;琚海涛 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | C23G1/19 | 分类号: | C23G1/19;C23G1/08;C23F4/02;C25F3/24;C23F17/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于分子束外延设备金属部件的表面处理方法,包括步骤:先进行电抛光工艺流程,在经过脱脂‑‑漂水‑‑超声波‑‑酸洗‑‑漂水‑‑电解抛光‑‑漂水‑‑中和‑‑漂水‑‑烘干后,使用光学仪器检测工件表面,运行加工算法,再利用经电子回旋加速器加速获得的高能电子束进一步加工处理。经此表面处理方法后的金属部件可以达到分子束外延设备所需的超高真空环境要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 分子 外延 设备 金属 部件 表面 处理 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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