[发明专利]低介电损耗的黑色素纳米材料及在基板上制备其涂层的方法及产品有效
| 申请号： | 202210510354.5 | 申请日： | 2022-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN115058005B | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 李乙文;陈鹏;章嘉豪;姚奇;顾志鹏 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C08G73/06 | 分类号： | C08G73/06;C09B69/10;C09D179/04;C08J7/04;C08L79/08 |
| 代理公司： | 北京众允专利代理有限公司 11803 | 代理人： | 张争艳 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 提供一种低介电损耗的黑色素纳米材料、在基板上制备其涂层的方法及产品。黑色素纳米材料的制备方法，配制多巴胺盐酸盐乙醇水溶液，加入3‑吡啶甲胺混合，缓慢向上述混合溶液滴加氨水，反应得到黑色浑浊溶液，离心洗涤得黑色素纳米材料；在基板上制备胺黑色素涂层的方法，配制多巴胺盐酸盐水溶液，加入3‑吡啶甲胺，将基板置于其中浸泡，加入三羟甲基氨基甲烷配制成pH值为8‑9的缓冲溶液，置于摇床原位涂覆，得到具有黑色素涂层的基板。方法具备良好的可调可控性、可重复性，涂覆平面规整，且界面结合能力高。黑色光学覆盖膜具有与聚酰亚胺相近的介电常数并在施加的频率环境下有更低的介电损耗，在电子领域有更广阔的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 低介电 损耗 黑色素 纳米 材料 基板上 制备 涂层 方法 产品 | ||
【主权项】：
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