[发明专利]一种具有辅助栅结构的旁栅AlGaN/GaN异质结场效应晶体管及工作方法与应用在审

专利信息
申请号: 202210532091.8 申请日: 2022-04-29
公开(公告)号: CN116207161A 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 林兆军;周衡;吕元杰;刘阳 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: H01L29/80 分类号: H01L29/80;H01L29/423
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人: 王楠
地址: 250199 山*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种具有辅助栅结构的旁栅AlGaN/GaN异质结场效应晶体管及工作方法与应用,属于微电子研究技术领域,相对于具有辅助栅结构的开口栅AlGaN/GaN异质结场效应晶体管,本发明引入由一对不与沟道接触、对称分布在沟道两侧且形状相同的金属电极组成的旁栅,旁栅下面的二维电子气不参与导电,只有漏‑源沟道导通,使得本发明用作低功耗A类电压放大器时,输入电压信号可以从0V开始向负偏压变化。通过对旁栅和辅助栅施加不同偏压,可以获得不同的器件工作模式,使得本发明在电路中的应用更加灵活,更适合于日益复杂的集成电路领域。
搜索关键词: 一种 具有 辅助 结构 algan gan 异质结 场效应 晶体管 工作 方法 应用
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东大学,未经山东大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210532091.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top