[发明专利]多弧离子镀膜涂层工艺有效
| 申请号： | 202210539640.4 | 申请日： | 2022-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN114921759B | 公开（公告）日： | 2023-08-04 |
| 发明（设计）人： | 刘浩;陈效全 | 申请（专利权）人： | 无锡乾泰新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/54;B22C9/22;C22C12/00 |
| 代理公司： | 无锡苏元专利代理事务所(普通合伙) 32471 | 代理人： | 吴忠义 |
| 地址： | 214000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多弧离子镀膜涂层工艺。其工艺步骤为：步骤1、基材预处理；步骤2、磁控多弧离子镀TiN过渡涂层；步骤3、磁控多弧离子镀TiTaN涂层；步骤4、磁控多弧离子镀TiTaN‑BiScCoCN涂层。采用辉光放电和离子轰击对基材进行刻蚀，提高了涂层与基材的结合强度，同时，使用磁控弧技术对基材进行多弧离子镀TiTaN‑BiScCoCN涂层，二次镀膜采用TaTi靶作为靶材，三次镀膜中使用Co靶材、BiScC靶，使涂层粘结更好的，提高涂层致密性和耐磨性。与现有技术相比，本发明通过多弧离子镀膜涂层工艺制备的TiTaN‑BiScCoCN涂层具有耐磨性好、耐热盐腐蚀性好以及与基材结合强度好的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 镀膜 涂层 工艺 | ||
【主权项】：
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