[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板在审

专利信息
申请号: 202210547754.3 申请日: 2022-05-18
公开(公告)号: CN114864605A 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 罗成志 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32;G02F1/1362
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 唐秀萍
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板,所述阵列基板包括依次层叠设置的衬底基板、第一缓冲层、第一滤光层、第二缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极、层间绝缘层、第二滤光层、源/漏电极以及平坦层。通过将所述第一滤光层与所述第二滤光层集成至所述阵列基板,外界的光能够射入所述阵列基板,首先通过所述第一滤光层将光反射至所述第二滤光层,然后通过所述第二滤光层将光反射至所述有源层,所述有源层能够充当感光单元,以满足对外界光中紫外线强度进行检测的需求。通过直接将紫外检测结构制备在阵列基板上,解决了目前紫外光探测需要附带滤光片才能使用的问题,制备工艺上更为简单,节约了生产成本。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
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