[发明专利]一种基于涡流空化的化学磁流变抛光装置及方法有效
| 申请号： | 202210577451.6 | 申请日： | 2022-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN114800060B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 付有志;赵玉洁;林殷铧;肖苏华;梁华卓;朱奕玮 | 申请（专利权）人： | 广东技术师范大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B31/112;B24B49/16 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 陈友 |
| 地址： | 510665 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于涡流空化的化学磁流变抛光装置及方法，所述抛光装置包括：机架；涡流空化器，设置在机架上，用于对抛光液进行空化，所述涡流空化器包括：汇流腔；锥形收缩腔；出流管，所述出流管的下端设置有多个放置槽，放置槽相对于出流管的轴线等角度地设置在同一圆周上，在每个所述放置槽内设置有磁瓦，所述磁瓦采用永磁体制成；集液槽，可旋转地设置在机架上，用于盛放磁流变液；工件盘，设置在集液槽内，所述工件盘和所述涡流空化器能够相对在XYZ空间内移动。本发明涉及的抛光方法结合了涡流空化效应、芬顿反应以及磁流变效应，能够达到更好的抛光效果，所设计的基于涡流空化的化学磁流变抛光装置可较好地实现本发明中涉及的抛光方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 涡流 化学 流变 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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