[发明专利]一种氧化铪基铁电薄膜、电容结构、晶体管及制备方法在审

专利信息
申请号: 202210585655.4 申请日: 2022-05-26
公开(公告)号: CN114988470A 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 周益春;包克瑜;曾斌建;廖佳佳;廖敏 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: C01G27/02 分类号: C01G27/02;H01L49/02
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 张鑫垚
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种氧化铪基铁电薄膜、电容结构、晶体管及制备方法,氧化铪基铁电薄膜包括:依次层叠设置的第一掺杂氧化铪基铁电薄膜层、第二掺杂氧化铪基铁电薄膜层和第三掺杂氧化铪基铁电薄膜层;所述第一掺杂氧化铪基铁电薄膜层的材质为:Hf1‑xMxOy1;所述第二掺杂氧化铪基铁电薄膜层的材质为:Hf1‑xMxOy2;所述第三掺杂氧化铪基铁电薄膜层的材质为:Hf1‑xMxOy3;其中,M为掺杂元素,y1和y3均大于y2。本发明氧化铪基铁电薄膜,采用叠层结构氧分布的铁电薄膜,通过改变氧含量调控相关性能,使得薄膜的铁电性能和抗疲劳性能达到所需的要求,从而可以提高微电子器件装置的使用寿命。
搜索关键词: 一种 氧化 铪基铁电 薄膜 电容 结构 晶体管 制备 方法
【主权项】:
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