[发明专利]改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法在审
| 申请号： | 202210586026.3 | 申请日： | 2022-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN115327854A | 公开（公告）日： | 2022-11-11 |
| 发明（设计）人： | 方正;吴长明;冯大贵;姚振海;金乐群;王绪根;杨伟;王宇凡 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 刘昌荣 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法，提供晶圆和光刻胶旋涂机，利用光刻胶旋涂机在晶圆表面形成光刻胶层；利用光刻胶旋涂机以第一转速旋涂光刻胶层，用以减薄光刻胶层；降低光刻胶旋涂机的转速至第二转速，之后旋涂光刻胶层至设定的厚度。本发明的方法消除了晶圆旋涂光刻胶时产生的风旋，提升了光刻胶膜厚均匀性；减少机台因为光刻胶膜厚异常而导致的宕机，提高了产量。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 晶圆上旋涂 光刻 边缘 产生 方法 | ||
【主权项】：
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