[发明专利]面向磁共振成像放射状采样轨迹的切片自适应确定方法在审
| 申请号： | 202210587353.0 | 申请日： | 2022-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN115063499A | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 庞彦伟;刘金枭;刘一鸣 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | G06T11/00 | 分类号： | G06T11/00;G06T5/10;G06V10/774;G06V10/82;G06N3/04;G06N3/08;A61B5/055;A61B5/00 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 王雨晴 |
| 地址： | 300071*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种面向磁共振成像放射状采样轨迹的切片自适应确定方法，包括以下步骤：步骤1、获取磁共振数据，构建深度强化学习模型的训练和测试数据；步骤2、基于步骤1获得的训练数据进行重建网络的预训练；步骤3、依据步骤2得到的预训练重建网络构建强化学习系统的环境和决策网络，进而实现对放射状切片自适应的高性能k空间主动欠采样。本发明能够提高对k空间数据的利用能力，改善目前单目标奖励函数对图像质量变化表示不够充分的问题，并通过重新建立重建网络的训练模式，使得强化学习的目标明确，提高磁共振成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 面向 磁共振 成像 放射 采样 轨迹 切片 自适应 确定 方法 | ||
【主权项】：
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