[发明专利]一种海水淡化-提铀联产半导体光还原膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202210598986.1 申请日: 2022-05-30
公开(公告)号: CN114855137B 公开(公告)日: 2022-12-13
发明(设计)人: 王君;刘宁;李茹民;张宏森;刘琦;朱佳慧;刘婧媛;陈蓉蓉;于静;孙高辉 申请(专利权)人: 哈尔滨工程大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08;C23C14/58;C22B7/00;C22B60/02
代理公司: 黑龙江立超同创知识产权代理有限责任公司 23217 代理人: 王大为
地址: 150001 黑龙江省哈尔滨市*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种海水淡化‑提铀联产半导体光还原膜及其制备方法,本发明涉及光催化半导体材料铀还原领域。通过磁控溅射制备用于铀还原超薄半导体光还原膜,调控磁控溅射参数,可制备出顶层为TiO2薄膜的多层结构材料,其顶层TiO2厚度为100‑200nm。通过磁控溅射沿基材晶面生长TiO2膜,使TiO2与基材紧密复合形成抑制结构,且超薄的TiO2膜结构缩短了铀还原电子传输路径,避免光生电子‑空穴复合,促进光催化铀提取性能。光照条件下,计算材料单位铀提取量高达15154.94mg/g。
搜索关键词: 一种 海水 淡化 联产 半导体 光还原 及其 制备 方法
【主权项】:
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