[发明专利]一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统和方法在审
| 申请号： | 202210600857.1 | 申请日： | 2022-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN114910007A | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 陈星;许岚;计亚平;冯泽舟 | 申请（专利权）人： | 机械科学研究院浙江分院有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01N21/01;G01N21/21 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 王鑫康 |
| 地址： | 310000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于集成电路制造中的集成式膜厚测量系统和方法，包括用于将线偏振光聚焦在晶圆表面的待测点的入射光路和用于获取光谱以计算被测样品表面的椭偏参数的透射光路，还包括在透射光路分支出的两条用于通过折射获取额外光谱以计算被测样品表面的椭偏参数的折射光路。上述技术方案采用非常规光学系统，在线性偏振光经过晶圆反射后，反射光束被后续的准直系统准直，通过分光镜的反射和透射，分别进入不同的验偏器，然后被相应光路的聚焦系统聚焦相应的光谱仪的入射狭缝上，从而同时得到三个光谱，通过适当选择这三个验偏器的角度，可以解出被测样品表面的椭偏参数，降低了空间要求，大大提高计算效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 集成电路 制造 中的 集成 式膜厚 测量 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于机械科学研究院浙江分院有限公司，未经机械科学研究院浙江分院有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210600857.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种保温杯外壳抛光装置
- 下一篇：一种汽车叶子板喷涂夹持机构
