[发明专利]一种基于异常特征分解与纹理背景转换的缺陷检测方法在审
申请号: | 202210623977.3 | 申请日: | 2022-06-02 |
公开(公告)号: | CN115100119A | 公开(公告)日: | 2022-09-23 |
发明(设计)人: | 杨华;尹周平;常靖昀;何源 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/11;G06T7/194;G06T7/44;G06V10/44;G06V10/54;G06V10/774 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 胡佳蕾 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明属于图像处理领域,并公开了一种基于异常特征分解与纹理背景转换的缺陷检测方法。该方法包括随机剪接模块、域特征交叉模块、对抗分割模块及隐空间约束模块,随机剪接模块用于人工异常样本的随机生成;域特征交叉模块分解背景特征和缺陷特征,隐式转换背景特征完成特征分离;隐空间约束模块将正常域与异常域背景特征进一步约束在公共空间中;像素级对抗分割模块通过像素级对抗学习机制,进一步提升纹理重构精度,还能直接分割出缺陷位置。进行检测时,一方面将输入图像与重构的纹理背景图像作差间接确定缺陷区域,另一方面在缺陷图中直接分割缺陷。如此,本发明对不同纹理表面上的不同大小、不同对比度的缺陷有较高的检测精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 异常 特征 分解 纹理 背景 转换 缺陷 检测 方法 | ||
【主权项】:
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