[发明专利]阻变随机存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202210628635.0 申请日: 2022-06-06
公开(公告)号: CN115394912A 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 仇圣棻;陈亮;李晓波;杨芸;潘国华;曹恒 申请(专利权)人: 昕原半导体(杭州)有限公司
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L27/24
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 王迎;袁文婷
地址: 311305 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种阻变随机存储器及其制备方法,其中的阻变随机存储器包括:在底层上进行金属沉积,形成下电极金属结构,并对下电极金属结构进行刻蚀,形成规则分布的线状下电极;在下电极上形成ReRAM切换层;在ReRAM切换层上填充介电材料层,介电材料层填充在相连两ReRAM切换层之间,并覆盖ReRAM切换层设置;在介电材料层上设置下电极的金属接触,金属接触延伸至相邻的两个ReRAM切换层之间,以形成阻变随机存储器。利用上述的发明能够提高存储单元密度,避免蚀刻工艺对结构造成的损伤。
搜索关键词: 随机 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
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