[发明专利]一种金透射光栅的制备方法在审
| 申请号： | 202210637394.6 | 申请日： | 2022-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN114994818A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 万桂波;郑衍畅;尹荣鑫 | 申请（专利权）人： | 苏州康启环境科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 合肥左心专利代理事务所(普通合伙) 34152 | 代理人： | 朱磊 |
| 地址： | 215011 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及光栅微纳米加工技术领域，且公开了一种金透射光栅的制备方法，包括以下步骤：以110晶向单晶硅作为顶层硅，以100晶向单晶硅作为底层硅；在底层硅上表面镀一层钛膜，在顶层硅下表面镀一层金膜。该金透射光栅的制备方法，提出了能够使光栅掩模的延伸方向平行于顶层110晶向单晶硅的垂直{111}晶面的极为简便的对准方法，降低了金透射光栅的制备难度，通过使光栅掩模的延伸方向平行于顶层110晶向单晶硅的垂直{111}晶面和使用39.0wt％‑41.0wt％的KOH溶液对顶层110晶向单晶硅进行各向异性湿法刻蚀，刻蚀温度为24℃‑26℃，且在刻蚀时加入0.5wt％的四甲基癸炔二醇作为表面活性剂，可保证刻蚀出的硅光栅侧壁粗糙度达到0.1nm量级。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透射 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
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