[发明专利]一种采用液态金属高功率脉冲磁控溅射提高沉积效率的方法在审
| 申请号： | 202210638878.2 | 申请日： | 2022-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN115029669A | 公开（公告）日： | 2022-09-09 |
| 发明（设计）人： | 王浪平;孙田玮;黄新放;王小峰 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司 23213 | 代理人： | 侯静 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种采用液态金属高功率脉冲磁控溅射提高沉积效率的方法，它涉及一种提高磁控溅射沉积效率的方法。本发明要解决现有磁控溅射沉积效率低的问题。方法：一、将溅射靶材放入靶座中，调整靶座与磁控靶冷却底座之间存在间隙；二、通过高功率脉冲磁控电源形成高功率脉冲磁控溅射放电，直至靶材表面熔化；三、溅射。本发明用于采用液态金属高功率脉冲磁控溅射提高沉积效率的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 液态 金属 功率 脉冲 磁控溅射 提高 沉积 效率 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学，未经哈尔滨工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210638878.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
