[发明专利]低熔点金属薄膜涂覆设备及方法在审
| 申请号： | 202210658382.1 | 申请日： | 2022-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN115125534A | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 崔玉柱;崔鹏程;李鼎顺;王展鹏;米军生;米振超;辛立华 | 申请（专利权）人： | 崔玉柱 |
| 主分类号： | C23C26/02 | 分类号： | C23C26/02;B23K20/02;B23K20/10;B23K20/24;B23K20/26 |
| 代理公司： | 北京金诚同达律师事务所 11651 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 062150 河北*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种低熔点金属薄膜涂覆设备及方法。该低熔点金属薄膜涂覆设备包括：储存装置，设有用于放置低熔点金属的储存腔；加热装置，用于将所述储存腔内的低熔点金属加热熔化至液态金属；涂抹装置，用于沿水平方向振动从而将液态金属涂抹在工件表面，并沿垂直方向振动从而使液态金属与工件浸润结合以形成金属薄膜；输送装置，用于将所述储存腔内的液态金属输送至所述涂抹装置；超声压焊装置，用于将金属薄膜下压在工件上，并沿水平方向振动从而在工件表面摩擦以使金属薄膜与工件焊接。本发明中，金属薄膜能均匀涂覆在工件表面并与工件可靠连接，可实现涂膜的高密封性和高导电性，满足产品需求。 | ||
| 搜索关键词： | 熔点 金属 薄膜 设备 方法 | ||
【主权项】：
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